讲座名称：Machine Learning in EDA: When and How
讲座人：余备 副教授
讲座时间：6月28日14:00
地点：北校区东大楼220报告厅
讲座人介绍：
余备，香港中⽂⼤学计算机科学与⼯程系副教授，2010年毕业于清华⼤学计算机科学与⼯程系获硕⼠学位，2014年毕业于美国德克萨斯⼤学奥斯丁分校电⼦计算机⼯程系，获博⼠学位。 2014年⾄2015年在美国德克萨斯⼤学奥斯丁分校做博⼠后研究，从事集成电路设计⾃动化(EDA)⽅⾯的研究。在2021年获得了IEEE CEDA 职业发展奖（early career award），是亚太区学者第⼀次获得这个世界级的奖项。获得过 IEEE TSM 2022, ICCAD 2021 & 2013, DATE2022, ASPDAC 2021 & 2012, ISPD2017、SPIE2016 等世界顶级期刊会议的最佳论⽂奖，以及ASPDAC2023, MLCAD2022, DATE2021, DAC2014、ICCAD2011、ASPDAC2013/2019
等多次最佳论⽂提名。他在世界级CAD竞赛中荣获多次世界前三名。 已发表超过90篇重要国际期刊论⽂和170余篇本领域重要国际会议论⽂。 担任了计算机辅助设计领域多个世界顶级期刊和国际重要会议的编委会委员和客座编辑，是IEEE TCCPS Newsletter的总编辑，同时也是IEEE CEDA香港分会的组委会委员。
讲座内容：
In this talk, we will explore the applications of machine learning in Electronic Design Automation (EDA) for improving the efficiency and quality of the design process. We will cover topics such as architecture design, physical design, and mask optimization, and discuss how machine learning can be used to enhance these areas. Specifically, we will examine how machine learning can help overcome the challenge of "small data" in IC design, how it can be used to customize for "large and binary"layout, and how it can assist in architecture search for industrial applications.
主办单位：微电子学院
